यह सुनिश्चित करने के लिए कि फोटोवोल्टिक ग्लास में [जीजी] quot;ट्रांसमिटेंस + ताकत + जंग प्रतिरोध [जीजी] quot; के तीन कार्य हैं, यह आवश्यक है कि फोटोवोल्टिक ग्लास [जीजी] उद्धरण प्राप्त कर सके; कम लोहा और उच्च पारगम्यता [जीजी] quot;।
लो आयरन का मतलब है कि फोटोवोल्टिक ग्लास में Fe2O3 (लौह ट्राइऑक्साइड) की मात्रा कम होनी चाहिए; राष्ट्रीय मानक निर्धारित करता है कि अल्ट्रा-व्हाइट एम्बॉस्ड ग्लास की Fe2O3 सामग्री 0.015% से अधिक नहीं होनी चाहिए, जबकि साधारण ग्लास की लौह सामग्री लगभग 10 गुना है;
उच्च पारदर्शिता का अर्थ है कि फोटोवोल्टिक ग्लास में उच्च प्रकाश संप्रेषण होना चाहिए। बिना लेपित 3.2 मिमी और लेपित 3.2 मिमी अल्ट्रा-व्हाइट एम्बॉस्ड ग्लास का फोटोवोल्टिक ट्रांसमिशन क्रमशः 91.5% और 93% से कम नहीं होना चाहिए, जबकि साधारण ग्लास (3.0 मिमी) का ट्रांसमिशन आमतौर पर इससे 5-7 प्रतिशत कम होता है। फोटोवोल्टिक ग्लास से।
[जीजी] उद्धरण के अलावा; कम लोहा और उच्च पारगम्यता [जीजी] उद्धरण;, फोटोवोल्टिक ग्लास में [जीजी] उद्धरण के लिए उच्च गुणवत्ता की आवश्यकताएं हैं; प्रभाव प्रतिरोध, गर्मी प्रतिरोध, ठंढ प्रतिरोध, घर्षण प्रतिरोध, और रंग एकरूपता [जीजी] उद्धरण ; साधारण कांच की तुलना में।
इसलिए, फोटोवोल्टिक ग्लास तकनीकी रूप से कठिन है, दूसरे शब्दों में: [जीजी] उद्धरण;फोटोवोल्टिक ग्लास में एक उच्च उद्योग बाधा है। [जीजी] उद्धरण; साधारण ग्लास उत्पादन लाइनों को आसानी से फोटोवोल्टिक ग्लास उत्पादन लाइनों में परिवर्तित नहीं किया जा सकता है।
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